[发明专利]光刻设备和支撑结构背景在审
| 申请号： | 201780054845.0 | 申请日： | 2017-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN109690406A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | A·贾奇 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备可以包括具有第一电导体的固定框架和被配置为支撑物体的支撑结构。支撑结构可移动地耦合到框架并且具有第二电导体。光刻设备还可以包括将第一电导体电耦合到第二电导体的导电流体。 | ||
| 搜索关键词： | 电导体 光刻设备 支撑结构 导电流体 固定框架 可移动地 支撑物体 电耦合 耦合到 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：固定框架，具有第一电导体；支撑结构，被配置为支撑物体，可移动地耦合到所述框架，并且具有第二电导体；以及导电流体，被配置为将所述第一电导体电耦合到所述第二电导体。
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