[发明专利]蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模制备体、蒸镀图案形成方法、有机半导体元件的制造方法、有机EL显示装置的制造方法有效
| 申请号： | 201780055858.X | 申请日： | 2017-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN109689922B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 小幡胜也;曾根康子;穗刈久实子 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陆悦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种蒸镀掩模，其包括树脂掩模和金属层，所述树脂掩模具有与要蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部，所述金属层局部地位于所述树脂掩模的一面上。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 框架 制备 图案 形成 方法 有机半导体 元件 制造 有机 el 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀掩模，其中，包括：树脂掩模，其具有与要蒸镀制作的图案对应的树脂掩模开口部；金属层，其局部地位于所述树脂掩模的一面上。
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