[发明专利]压印基板在审

专利信息
申请号: 201780059530.5 申请日: 2017-09-11
公开(公告)号: CN109844638A 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 韩辉;袁大军;M·谢恩·鲍恩 申请(专利权)人: 伊鲁米那股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L23/00;H01L21/033
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 胡秋玲;郑霞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 压印基板常常用于产生在电气、光学和生物化学应用中使用的小型化设备。压印技术(诸如纳米压印光刻)可能在基板的表面中留下残留物,其影响结合并降低所产生的设备的质量。介绍了为了提高的结合质量而具有无残留物区域或具有减少数量的残留物的区域的压印基板。还介绍了产生没有来自压印过程的残留物的压印基板的方法。方法包括物理去除法、选择性蚀刻法和能量施加法。这些方法可以在基板的表面中产生无残留物区域,其可用于产生更高强度的结合。
搜索关键词: 压印基板 基板 纳米压印光刻 小型化设备 选择性蚀刻 生物化学 能量施加 压印过程 压印技术 除法 可用 应用
【主权项】:
1.一种产生压印的无残留物的基板表面的方法,包括:用压印树脂的层涂覆基板层;施加纳米压印模板以在所述压印树脂中产生纳米结构;在所述纳米压印模板在适当位置上的情况下固化所述压印树脂以产生固化压印树脂;去除所述纳米压印模板;将第一密封层施加到所述固化压印树脂的顶表面;焊接所述固化压印树脂的与所述基板层的结合区域接触的区域;以及去除焊接到所述固化压印树脂的与所述基板层的所述结合区域接触的所述区域的所述第一密封层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊鲁米那股份有限公司,未经伊鲁米那股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780059530.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top