[发明专利]3D半导体器件及结构在审

专利信息
申请号: 201780061048.5 申请日: 2017-09-19
公开(公告)号: CN109952643A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 兹维·奥巴赤;金武韩;布瑞恩·克朗奎斯特;伊莱·乐斯基 申请(专利权)人: 三维单晶公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/8238;H01L27/11551;H01L27/108;H01L27/11
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种3D器件,所述器件包括:包括第一位单元阵列的第一层,所述第一位单元阵列包括三个独立的第一行;包括第二位单元阵列的第二层,所述第二位单元阵列包括三个独立的第二行,其中所述第二层覆盖所述第一层;以及至少三个垂直位线,所述至少三个垂直位线中的每个连接至相应的三个水平第一位线和三个水平第二位线,其中所述三个水平第一位线包括所述第一位单元阵列的控件,其中所述三个水平第二位线包括所述第二位单元阵列的控件,并且所述三个垂直位线中的每个可用于控制所述三个独立的第一行中的不同一行,或控制所述三个独立的第二行中的不同一行。
搜索关键词: 位单元阵列 位线 垂直 第一层 控件 半导体器件 可用 覆盖
【主权项】:
1.一种3D器件,其特征在于,所述器件包括:第一层,所述第一层包括第一位单元阵列,所述第一位单元阵列包括三个独立的第一行;第二层,所述第二层包括第二位单元阵列,所述第二位单元阵列包括三个独立的第二行;其中所述第二层覆盖所述第一层;以及至少三个垂直位线,所述至少三个垂直位线中的每个连接至相应的三个水平第一位线和三个水平第二位线,其中所述三个水平第一位线包括所述第一位单元阵列的控件,其中所述三个水平第二位线包括所述第二位单元阵列的控件,并且其中所述三个垂直位线中的每个可用于控制所述三个独立的第一行中的不同一行,或控制所述三个独立的第二行中的不同一行。
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