[发明专利]基板处理设备以及使用基板处理设备的方法有效
| 申请号： | 201780068080.6 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109923688B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 曹生贤 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;H01L21/203;H01L21/02;H01L21/66;H01L21/683;H01L21/268;H01L21/687;C23C14/52;C23C14/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开的是基板处理设备，所述基板处理设备包括：处理腔室(10)，用于提供与外部隔离的处理环境；至少一个距离测量单元(500)，用于非接触地测量安装在所述处理腔室(10)中的基板(S)与掩模(350)之间的距离；以及按压机构，用于在所述距离测量单元(500)正在测量在所述基板(S)与所述掩模(350)之间的距离时通过相对于彼此移动所述基板(S)和所述掩模(350)来使所述基板(S)和所述掩模(350)紧密接触。所述基板处理设备可以使所述基板(S)与所述掩模(350)对准并使它们很精确地和可靠地紧密接触，由此增加所述基板处理的产量。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 设备 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理设备，包括：处理腔室，所述处理腔室提供与外部隔离的处理环境；至少一个距离测量单元，所述至少一个距离测量单元以非接触的方式测量被运送到所述处理腔室中的基板与掩模之间的间隔；以及粘附驱动部分，所述粘附驱动部分使所述基板和所述掩模彼此粘附，使得所述间隔等于或小于预设的参考距离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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