[发明专利]用于高敏感度重复项缺陷检测的系统及方法有效
| 申请号： | 201780068950.X | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109964115B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | B·布拉尔;S·巴塔查里亚;E·希夫林;李胡成;B·默里;A·马修;C·巴哈斯卡尔;高理升 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统包含：(若干)计算机子系统，其包含一或多个图像处理组件，其获取由检验子系统针对晶片产生的图像；主用户接口组件，其将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且接收来自所述用户的指令；及接口组件，其提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口之间的接口。不同于当前使用的系统，所述一或多个图像处理组件经配置用于通常将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测，且所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的所述缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 敏感度 重复 缺陷 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种经配置以检测光罩上的缺陷的系统，其包括：检验子系统，其经配置以扫描晶片以借此产生所述晶片的图像，其中光罩用于在光刻工艺中将特征印刷于所述晶片上；及一或多个计算机子系统，其包括：一或多个图像处理组件，其经配置用于获取由检验子系统针对所述晶片产生的所述图像；主用户接口组件，其经配置用于将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且用于接收来自所述用户的指令；及接口组件，其经配置用于提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口组件之间的接口且用于控制所述检验子系统的一或多个硬件元件；其中所述一或多个图像处理组件经进一步配置用于通过将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测，且其中所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的缺陷；其中所述一或多个图像处理组件经进一步配置用于将包括仅所述重复项缺陷的信息的检验结果发送到所述接口组件；及其中所述一或多个计算机子系统经配置用于基于所述晶片上检测到的所述重复项缺陷识别所述光罩上的缺陷。
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