[发明专利]带隔离膜的增强用薄膜在审
| 申请号： | 201780069515.9 | 申请日： | 2017-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN109963919A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木翔悟;徐创矢;设乐浩司;越智元气 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/29 | 分类号： | C09J7/29;B32B7/06;B32B27/00;C09J11/06;C09J201/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种带隔离膜的增强用薄膜，其具有增强用薄膜和隔离膜，能够抑制将隔离膜剥离时可能产生的剥离静电，即便从预先贴合于光学构件、电子构件等的露出面侧的该带隔离膜的增强用薄膜将隔离膜剥离，也能够减轻对该光学构件、电子构件造成的损伤。本发明的带隔离膜的增强用薄膜具有增强用薄膜P和隔离膜Q，该增强用薄膜P包含基材层A1和粘合剂层A2，该隔离膜Q包含脱模层B1和基材层B2，该粘合剂层A2与该脱模层B1直接层叠，该粘合剂层A2为由粘合剂组合物a2形成的粘合剂层，该粘合剂组合物a2含有选自有机硅系添加剂和氟系添加剂中的至少一种，且该粘合剂层A2的表面的Si元素的存在比率与F元素的存在比率的合计为3原子％～13原子％。 | ||
| 搜索关键词： | 隔离膜 薄膜 粘合剂层 粘合剂组合物 剥离 电子构件 光学构件 基材层 脱模层 添加剂 有机硅系 静电 露出面 氟系 贴合 损伤 | ||
【主权项】：
1.一种带隔离膜的增强用薄膜，其具有增强用薄膜P和隔离膜Q，该增强用薄膜P包含基材层A1和粘合剂层A2，该隔离膜Q包含脱模层B1和基材层B2，该粘合剂层A2与该脱模层B1直接层叠，该粘合剂层A2为由粘合剂组合物a2所形成的粘合剂层，该粘合剂组合物a2含有选自有机硅系添加剂和氟系添加剂中的至少一种，该粘合剂层A2的表面的Si元素的存在比率与F元素的存在比率的合计为3原子％～13原子％。
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