[发明专利]抗蚀剂基板预处理组合物和抗蚀剂基板的制造方法有效
| 申请号： | 201780070786.6 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN109964546B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 竹田拓马;佐藤祥平 | 申请（专利权）人： | 三洋化成工业株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/28 | 分类号： | H05K3/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于洁;庞东成 |
| 地址： | 日本京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗蚀剂基板预处理组合物，其能够抑制通过喷墨方式涂布抗蚀油墨后的润湿扩展，能够以高精度形成微细的抗蚀剂图案。本发明的抗蚀剂基板预处理组合物为含有两性表面活性剂(A1)、阴离子型表面活性剂(A2)和水的抗蚀剂基板预处理组合物，其特征在于，从上述两性表面活性剂(A1)的等电点的数值减去上述抗蚀剂基板预处理组合物的pH的数值而得到的数值([两性表面活性剂(A1)的等电点的数值]－[抗蚀剂基板预处理组合物的pH的数值])为‑3～4，上述两性表面活性剂(A1)的摩尔数相对于上述两性表面活性剂(A1)的摩尔数和上述阴离子型表面活性剂(A2)的摩尔数的总摩尔数的比例([两性表面活性剂(A1)的摩尔数]/([两性表面活性剂(A1)的摩尔数]+[阴离子型表面活性剂(A2)的摩尔数]))为0.1～0.9。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂基板 预处理 组合 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂基板预处理组合物，其为含有两性表面活性剂(A1)、阴离子型表面活性剂(A2)和水的抗蚀剂基板预处理组合物，其特征在于，从所述两性表面活性剂(A1)的等电点的数值减去所述抗蚀剂基板预处理组合物的pH的数值而得到的数值、即[两性表面活性剂(A1)的等电点的数值]－[抗蚀剂基板预处理组合物的pH的数值]为‑3～4，所述两性表面活性剂(A1)的摩尔数相对于所述两性表面活性剂(A1)的摩尔数和所述阴离子型表面活性剂(A2)的摩尔数的总摩尔数的比例、即[两性表面活性剂(A1)的摩尔数]/([两性表面活性剂(A1)的摩尔数]+[阴离子型表面活性剂(A2)的摩尔数])为0.1～0.9。
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