[发明专利]具有背部气源的可旋转静电吸盘有效

专利信息
申请号: 201780075409.1 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN110050334B 公开(公告)日: 2023-09-05
发明(设计)人: 比哈瑞斯·斯瓦米纳森;伟·王 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文公开了基板支撑底座和结合所述基板支撑底座的静电吸盘的实施方式。在一些实施方式中,基板支撑底座包括:具有上表面和与上表面相对的下表面的主体;一个或多个设置在主体内的吸附电极;自上表面突出以支撑基板的多个基板支撑元件;在主体中心处设置在下表面中并且部分地穿过主体的孔;多个气孔,所述多个气孔设置在靠近主体中心的上表面中,其中所述多个气孔设置在孔的上方并且流体耦接至孔;和多个气体分配槽,所述多个气体分配槽形成在上表面中并且流体耦接至多个气孔。
搜索关键词: 具有 背部 旋转 静电 吸盘
【主权项】:
1.一种基板支撑底座,包括:主体,所述主体具有上表面和与所述上表面相对的下表面;一个或多个吸附电极,所述一个或多个吸附电极设置在所述主体内;多个基板支撑元件,所述多个基板支撑元件从所述上表面突出以支撑基板;孔,所述孔在所述主体的中心处设置于所述下表面中并且部分地穿过所述主体;多个气孔,所述多个气孔靠近所述主体的所述中心设置在所述上表面中,其中所述多个气孔设置在所述孔的上方并且流体耦接至所述孔;和多个气体分配槽,所述多个气体分配槽形成在所述上表面中并且流体耦接至所述多个气孔。
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