[发明专利]保护涂层

摘要

一种在基材上沉积保护涂层的方法，其中所述保护涂层包含(i)与所述基材接触的防潮层，其包括第一子层、可选的一个或多个中间子层，和最终子层，(ii)无机的机械保护层，和(iii)介于所述防潮层和所述机械保护层之间的梯度层。

主权项

1.一种在基材上沉积保护涂层的方法，其中：所述保护涂层包括(i)与所述基材接触的防潮层，其包括第一子层，可选地一个或多个中间子层，和最终子层，(ii)无机的机械保护层，和(iii)介于所述防潮层和所述机械保护层之间的梯度层；并且所述方法包括：(a)通过前体混合物(A)的等离子体沉积在所述基材上沉积所述防潮层的所述第一子层，所述前体混合物(A)包括有机硅化合物、氟代烃或式(X)化合物；其中：Z₁表示C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基；Z₂代表氢、C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基；Z₃表示氢、C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基；Z₄表示氢、C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基；Z₅表示氢、C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基；和Z₆代表氢、C₁‑C₃烷基或C₂‑C₃链烯基，(b)如果存在，通过前体混合物(B)的等离子体沉积来沉积所述防潮层的所述一个或多个中间子层的每一个，所述前体混合物(B)包括有机硅化合物、氟代烃或式(X)化合物；(c)通过前体混合物(C)的等离子体沉积来沉积所述防潮层的所述最终子层，所述前体混合物(C)包括有机硅化合物、氟代烃或式(X)化合物；(d)通过前体混合物(D)的等离子体沉积在所述防潮层的所述最终子层上沉积所述梯度层，所述前体混合物(D)包括前体混合物(C)和(E)的所述组分；(e)通过前体混合物(E)的等离子体沉积在所述梯度层上沉积所述机械保护层，所述前体混合物(E)包括有机硅化合物。