[发明专利]对准装置、对准方法、光刻装置和制造物品的方法有效

专利信息
申请号: 201780077390.4 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN110088878B 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 芝山卓;古卷贵光 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;B29C59/02;G01B11/00;G03F9/00;H01L21/68
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 杨小明
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种定位装置,其中测量单元包括照射单元,照射单元照射第一原板侧标记、第二原板侧标记、第一基板侧标记和第二基板侧标记,第一原板侧标记用于粗略测量并且布置在原板或原板保持部件上,第二原板侧标记用于精细测量并且布置在原板或原板保持部分上,第一基板侧标记用于粗略测量并且布置在基板上或基板保持部分上,第二基板侧标记用于精细测量并且布置在基板上或基板保持部件上。测量单元:使照射单元在第一条件下进行照射,并基于来自第一原板侧标记和第一基板侧标记的光进行粗略测量;使照射单元在第二条件下进行照射,并基于来自第二原板侧标记和第二基板侧标记的光进行精细测量。
搜索关键词: 对准 装置 方法 光刻 制造 物品
【主权项】:
1.一种对准原版和基板的对准装置,其特征在于,所述对准装置包括:原版保持器,被配置为保持原版;基板保持器,被配置为保持基板;以及测量设备,包括照射器并且被配置为测量原版和基板之间的位置偏差,照射器照射布置在原版和原版保持器之一中的用于粗略测量的第一原版侧标记和用于精细测量的第二原版侧标记、以及布置在基板和基板保持器之一中的用于粗略测量的第一基板侧标记和用于精细测量的第二基板侧标记,其中,测量设备通过使照射器在第一条件下照射第一原版侧标记和第一基板侧标记、基于来自第一原版侧标记和第一基板侧标记的光束进行粗略测量,并且通过使照射器在第二条件下照射第二原版侧标记和第二基板侧标记、基于来自第二原版侧标记和第二基板侧标记的光束进行精细测量。
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