[发明专利]对准装置、对准方法、光刻装置和制造物品的方法有效
申请号: | 201780077390.4 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN110088878B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 芝山卓;古卷贵光 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;B29C59/02;G01B11/00;G03F9/00;H01L21/68 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种定位装置,其中测量单元包括照射单元,照射单元照射第一原板侧标记、第二原板侧标记、第一基板侧标记和第二基板侧标记,第一原板侧标记用于粗略测量并且布置在原板或原板保持部件上,第二原板侧标记用于精细测量并且布置在原板或原板保持部分上,第一基板侧标记用于粗略测量并且布置在基板上或基板保持部分上,第二基板侧标记用于精细测量并且布置在基板上或基板保持部件上。测量单元:使照射单元在第一条件下进行照射,并基于来自第一原板侧标记和第一基板侧标记的光进行粗略测量;使照射单元在第二条件下进行照射,并基于来自第二原板侧标记和第二基板侧标记的光进行精细测量。 | ||
搜索关键词: | 对准 装置 方法 光刻 制造 物品 | ||
【主权项】:
1.一种对准原版和基板的对准装置,其特征在于,所述对准装置包括:原版保持器,被配置为保持原版;基板保持器,被配置为保持基板;以及测量设备,包括照射器并且被配置为测量原版和基板之间的位置偏差,照射器照射布置在原版和原版保持器之一中的用于粗略测量的第一原版侧标记和用于精细测量的第二原版侧标记、以及布置在基板和基板保持器之一中的用于粗略测量的第一基板侧标记和用于精细测量的第二基板侧标记,其中,测量设备通过使照射器在第一条件下照射第一原版侧标记和第一基板侧标记、基于来自第一原版侧标记和第一基板侧标记的光束进行粗略测量,并且通过使照射器在第二条件下照射第二原版侧标记和第二基板侧标记、基于来自第二原版侧标记和第二基板侧标记的光束进行精细测量。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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