[发明专利]III族氮化物半导体基板及III族氮化物半导体基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201780078733.9 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN110088364B 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 住田行常;藤山泰治;后藤裕辉;中川拓哉;石原裕次郎 申请(专利权)人: 古河机械金属株式会社
主分类号: C30B29/38 分类号: C30B29/38;C23C16/34;C30B25/18;H01L21/205
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李慧慧;向勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的III族氮化物半导体基板的制造方法,具有:准备III族氮化物半导体基板的准备工序(S10),和使III族氮化物半导体在III族氮化物半导体层上外延生长的生长工序(S20)。所述III族氮化物半导体基板,具备:具有半极性面作为主表面的蓝宝石基板,和位于该主表面上的III族氮化物半导体层,并且在与该主表面垂直的方向上的俯视图中,蓝宝石基板的0002方向和III族氮化物半导体层的10‑10方向不正交。
搜索关键词: iii 氮化物 半导体 制造 方法
【主权项】:
1.一种III族氮化物半导体基板,具备:具有半极性面作为主表面的蓝宝石基板,和位于所述主表面上的III族氮化物半导体层,并且在与所述主表面垂直的方向上的俯视图中,所述蓝宝石基板的<0002>方向和所述III族氮化物半导体层的<10‑10>方向不正交。
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