[发明专利]压印设备在审
| 申请号： | 201780079812.1 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN110226128A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 亚历山大·里切斯;安德鲁·A·布朗;朱莉娅·莫里森;韦恩·N·乔治;蒂莫西·J·默克尔;奥德丽·罗斯·扎克 | 申请（专利权）人： | 伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;C09D183/04 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 牟静芳;郑霞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种压印设备包括具有在其中限定的多于一个的纳米特征的硅母体。抗粘层涂覆硅母体，该抗粘层包括具有环硅氧烷的分子，该环硅氧烷具有至少一个硅烷官能团。一种方法包括通过以下来形成母体模板：在硅母体上沉积制剂，该硅母体包括在其中限定的多于一个的纳米特征，该制剂包含溶剂和具有环硅氧烷的分子，该环硅氧烷具有至少一个硅烷官能团；以及固化该制剂，从而在硅母体上形成抗粘层，该抗粘层包含所述分子。所述方法还包括在母体模板的抗粘层上沉积硅基工作印模材料；固化所述硅基工作印模材料以形成包括该多于一个的纳米特征的复制阴模的工作印模；以及从母体模板中释放所述工作印模。 | ||
| 搜索关键词： | 母体 抗粘层 环硅氧烷 纳米特征 硅烷官能团 压印设备 印模材料 硅基 印模 沉积 固化 复制阴模 溶剂 涂覆 释放 | ||
【主权项】：
1.一种压印设备，包括：硅母体，所述硅母体包括在其中限定的多于一个的纳米特征；以及抗粘层，所述抗粘层涂覆所述硅母体，所述抗粘层包括具有环硅氧烷的分子，所述环硅氧烷具有至少一个硅烷官能团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司，未经伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780079812.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
