[发明专利]用于光刻胶层中场引导酸轮廓控制的设备

摘要

本文描述的实施方式涉及用于处理基板的设备和方法。更特定地，提供了一种具有可移动电极的处理腔室，可移动电极用于在填充有流体的处理容积内产生平行场。在一个实施方式中，处理腔室的长轴线垂直地定向，且基板支撑件与沿着处理腔室的长轴线延伸的多个可移动电极相对设置。在某些实施方式中，基板支撑件是电浮动的且能够在处理基板期间围绕处理腔室的短轴线旋转。

主权项

1.一种用于处理基板的设备，包含：腔室主体，具有侧壁且界定处理容积，其中所述处理容积的长轴线垂直地定向，且所述处理容积的短轴线水平地定向；可移动的门，耦接到所述腔室主体；真空卡盘，耦接到所述门；滑动密封件，耦接到所述腔室主体的侧壁并至少部分地界定所述处理容积的一部分；多个可移动电极，与所述真空卡盘相对而设置在所述处理容积中，所述多个可移动电极适于产生平行于所述处理容积的所述长轴线的电场；多个轴，从所述多个电极延伸，所述轴延伸穿过所述滑动密封件；及马达，耦接到所述多个轴。