[发明专利]射频烤箱能量施加的控制有效
| 申请号： | 201780084061.2 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN110495251B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 克里斯汀·罗莱特;希娜·迈登;安德里亚·巴卡瑞 | 申请（专利权）人： | 伊利诺斯工具制品有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/64 | 分类号： | H05B6/64;H05B6/68;H05B6/70 |
| 代理公司： | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人： | 脱颖 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种烤箱可以包括被配置成接收食品的烹饪室、被配置成将加热的空气提供到烹饪室中的对流加热系统、被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到烹饪室中的射频(RF)加热系统、以及被配置成控制对流加热系统和RF加热系统的控制电子器件。控制电子器件还可以控制用户接口，该用户接口被配置成限定用于提供用户输入以控制烤箱的操作的一个或多个控制台。控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，而且能够响应于学习进程而自动选择用于施加RF能量的频率和相位参数。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 烤箱 能量 施加 控制 | ||
【主权项】：
1.一种烤箱，包括：/n烹饪室，被配置成接收食品；/n对流加热系统，被配置成将加热的空气提供到所述烹饪室中；/n射频(RF)加热系统，被配置成使用固态电子部件将RF能量提供到所述烹饪室中；以及/n控制电子器件，被配置成控制所述对流加热系统和所述RF加热系统，所述控制电子器件进一步控制被配置成限定一个或多个控制台的用户界面，所述控制台用于提供用户输入以控制所述烤箱的操作，/n其中所述控制电子器件被配置成使得用户能够选择烹饪时间和所选择的RF烹饪功率，但是响应于学习进程自动选择用于施加所述RF能量的频率和相位参数。/n
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