[发明专利]调整组件和包括该调整组件的衬底曝光系统有效

专利信息
申请号: 201780086445.8 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN110325919B 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: J·J·M·皮耶斯特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01J37/20;H01J37/317
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;张昊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种衬底曝光系统,包括框架、用于承载衬底的衬底支撑模块、用于曝光衬底的曝光装置以及用于调整曝光装置相对于衬底支撑模块的位置的调整组件。调整组件包括液压致动器、液压发生器和导管,导管互连液压致动器和液压发生器用于形成液压系统。曝光装置、框架、调整组件和衬底支撑模块被布置为为一系列机械连接部件的一部分。一系列机械连接部件的第一部分包括曝光装置,并且第二部分包括衬底支撑模块。所述液压执行机构布置在所述第一部分和所述第二部分之间。优选地,液压致动器包括第一波纹管,而液压发生器包括第二波纹管。
搜索关键词: 调整 组件 包括 衬底 曝光 系统
【主权项】:
1.一种机械调整组件,用于调整一系列机械连接部件的第一部分相对于一系列机械连接部件的第二部分的位置,其中所述机械调整组件包括第一波纹管、第二波纹管和导管,其中所述导管将所述第一波纹管和所述第二波纹管互连,用于形成液压系统,其中所述第一波纹管布置在所述一系列机械连接部件的所述第一部分和所述第二部分之间,其中所述第二波纹管布置为与所述第一波纹管隔开,并且其中所述第一波纹管被布置为由所述第二波纹管致动。
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