[发明专利]激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件制造方法

摘要

根据一种实施方式的激光照射装置(1)包括：用于生成激光的激光生成装置(14)；用于浮起待施加激光的处理对象(16)的浮起单元(10)；以及用于传送已浮起的所述处理对象(16)的传送单元(11)。所述传送单元(11)包括：通过吸附所述处理对象(16)而保持该处理对象(16)的保持机构(12)；以及用于沿传送方向移动所述保持机构(12)的移动机构(13)。所述保持机构(12)包括：含多个通孔(152)的底座(153)；分别与所述多个通孔(152)连接的多条管道(145)；用于排空所述多条管道(145)的真空生成装置(144)；以及分别设于所述多条管道(145)中央的多个吸附辅助阀(150)，每个该吸附辅助阀(150)均设置为当经相应通孔(152)流入相应管道(145)内的气体流量大于或等于阈值时关闭。

主权项

1.一种激光照射装置，其特征在于，包括：一激光生成装置，用于生成激光；一浮起单元，用于浮起待施加所述激光的处理对象；以及一传送单元，用于传送被浮起的所述处理对象，其中，所述传送单元包括：一保持机构，用于通过吸附所述处理对象而保持所述处理对象；以及一移动机构，用于沿一传送方向移动所述保持机构，所述保持机构包括：一底座，所述底座包括：用作吸附所述处理对象的吸附表面的第一表面；与所述第一表面相对的第二表面；以及从所述第一表面延伸至所述第二表面的多个通孔；多条管道，每条所述管道在所述底座的所述第二表面上连接到所述多个通孔中相应的一个；一排空机构，用于从所述多条管道排气；以及多个吸附辅助阀，每个所述吸附辅助阀设置在所述多条管道中相应一条管道的中央，每个所述吸附辅助阀均设置为当经过相应通孔流入相应管道内的气体的流量大于或等于一阈值时关闭。