[发明专利]光罩优化算法及最优目标设计在审
| 申请号： | 201780091701.2 | 申请日： | 2017-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN110741374A | 公开（公告）日： | 2020-01-31 |
| 发明（设计）人： | Y·弗莱;V·莱温斯基 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供光罩上及晶片上的计量目标设计，以及目标设计及处理方法。目标设计包括：粗间距周期性结构，其具有在子元件CD及/或高度上变化的细间距子元件；正交周期性结构，其垂直于测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，所述周期性循环条提供用于实现良好印刷目标的校准参数。正交周期性结构可设计在光罩上且是未解析的，或以切割图案施加在处理层上，具有对于切割层覆盖的相对低灵敏度。所设计的目标可用于覆盖计量以及用于测量工艺参数，例如扫描仪像差及间距偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 周期性结构 目标设计 正交 周期性循环 子元件 光罩 解析 计量 测量工艺 低灵敏度 间距偏差 切割图案 校准参数 印刷目标 处理层 切割层 扫描仪 覆盖 晶片 可用 像差 测量 垂直 施加 | ||
【主权项】：
1.一种计量目标设计，其包括沿着测量方向的周期性结构，所述周期性结构具有周期性循环元件当中的粗间距，/n其中每一元件沿着所述测量方向是周期性的，具有在子元件临界尺寸CD上变化的周期性循环子元件当中的细间距，其中所述粗间距是所述细间距的整数倍，且/n其中所述目标设计进一步包括正交周期性结构，所述正交周期性结构垂直于所述测量方向，具有周期性循环条当中的正交未解析间距，其中所述正交未解析间距小于指定最小设计规则间距。/n
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