[发明专利]射流片、用于循环射流片内的流体的系统和流体流动结构有效
| 申请号： | 201780093776.4 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN111032359B | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | S-L·乔伊;C-H·陈;M·W·坎比 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/175 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 张涛;吴丽丽 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种射流片，该射流片包括流体通道层，该流体通道层包括沿着流体喷射设备的长度限定的至少一个流体通道。射流片还包括耦接到流体通道层的中介层。该中介层包括限定在中介层中的多个输入端口以将至少一个通道层射流地耦接到流体源，并且中介层包括限定在中介层中的多个输出端口以将至少一个通道层射流地耦接到流体源。 | ||
| 搜索关键词： | 射流 用于 循环 流体 系统 流动 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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