[发明专利]形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物有效

专利信息
申请号: 201810004171.X 申请日: 2018-01-03
公开(公告)号: CN108281573B 公开(公告)日: 2022-05-03
发明(设计)人: 李在庸;朴一秀;金瑟雍;沈治映 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;刘铮
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物,形成薄膜的方法包括:制备包括形成发光层的发光层材料和形成邻近发光层的层的材料的混合物;以及通过将所述混合物加热至发光层材料的加工温度和附加材料的加工温度,在腔室内部将发光层和邻近发光层的层顺序地层压到衬底上。发光层材料和附加材料具有彼此不同的加工温度。发光层材料和附加材料从发光层材料和附加材料之中具有较低加工温度的一个到发光层材料和附加材料之中具有较高加工温度的一个被顺序地层压到衬底上。
搜索关键词: 形成 薄膜 方法 用于 沉积 混合物
【主权项】:
1.形成薄膜的方法,所述方法包括:制备用于沉积薄膜的混合物,所述用于沉积薄膜的混合物包括形成发光层的发光层材料以及形成邻近所述发光层的至少一个层的附加材料;以及通过将所述用于沉积薄膜的混合物加热到所述发光层材料的加工温度和所述附加材料的加工温度,在腔室内部将所述发光层和邻近所述发光层的所述至少一个层顺序地层压到衬底上,其中:所述发光层材料和所述附加材料具有彼此不同的加工温度,以及所述发光层材料和所述附加材料从所述发光层材料和所述附加材料之中具有较低加工温度的一个到所述发光层材料和所述附加材料之中具有较高加工温度的一个被顺序地层压到所述衬底上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810004171.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top