[发明专利]形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物有效
申请号: | 201810004171.X | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN108281573B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 李在庸;朴一秀;金瑟雍;沈治映 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请涉及形成薄膜的方法和用于沉积薄膜的混合物,形成薄膜的方法包括:制备包括形成发光层的发光层材料和形成邻近发光层的层的材料的混合物;以及通过将所述混合物加热至发光层材料的加工温度和附加材料的加工温度,在腔室内部将发光层和邻近发光层的层顺序地层压到衬底上。发光层材料和附加材料具有彼此不同的加工温度。发光层材料和附加材料从发光层材料和附加材料之中具有较低加工温度的一个到发光层材料和附加材料之中具有较高加工温度的一个被顺序地层压到衬底上。 | ||
搜索关键词: | 形成 薄膜 方法 用于 沉积 混合物 | ||
【主权项】:
1.形成薄膜的方法,所述方法包括:制备用于沉积薄膜的混合物,所述用于沉积薄膜的混合物包括形成发光层的发光层材料以及形成邻近所述发光层的至少一个层的附加材料;以及通过将所述用于沉积薄膜的混合物加热到所述发光层材料的加工温度和所述附加材料的加工温度,在腔室内部将所述发光层和邻近所述发光层的所述至少一个层顺序地层压到衬底上,其中:所述发光层材料和所述附加材料具有彼此不同的加工温度,以及所述发光层材料和所述附加材料从所述发光层材料和所述附加材料之中具有较低加工温度的一个到所述发光层材料和所述附加材料之中具有较高加工温度的一个被顺序地层压到所述衬底上。
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