[发明专利]掩模板探伤装置及探伤方法在审
| 申请号： | 201810004926.6 | 申请日： | 2018-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN108227371A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 张晓妹;王志强;王辉;廖务义 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/84 | 分类号： | G03F1/84 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模板 探伤装置 掩模板载物台 掩模板表面 对比结果 探伤 光电转换模块 参考电信号 光信号转换 报警模块 光电转换 计算模块 批量产品 使用寿命 接收器 异物 产能 光量 划伤 预设 警报 节约 污染 发现 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板探伤装置，其特征在于，包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一端并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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