[发明专利]纳米压印的方法在审
| 申请号： | 201810008147.3 | 申请日： | 2018-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN108319106A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 邓丹丹;崔德虎;马小浩 | 申请（专利权）人： | 南方科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 518051 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米压印的方法。一种纳米压印的方法，包括以下步骤：提供衬底，在衬底表面形成聚合物层；将聚合物层加热至软化，并对聚合物层远离衬底的一侧进行第一次压印，以在聚合物层上形成具有多个光栅线的第一纳米压印图形；及将聚合物层加热至软化，再对第一纳米压印图形进行第二次压印，以得到更精细的纳米压印图形。上述纳米压印的方法能够得到更精细的纳米压印图形；同时，不需要制作更精细的模板，在现有模板的基础上就可以制得更精细的纳米压印图形，不仅能够降低模板的制作时间和成本，而且还能够保证和提高纳米压印图形的产出率和良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米压印图形 聚合物层 纳米压印 精细 衬底 压印 加热 软化 衬底表面 产出率 光栅线 良品率 制作 保证 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供衬底，在所述衬底表面形成聚合物层；将所述聚合物层加热至软化，并对所述聚合物层远离所述衬底的一侧进行第一次压印，以在所述聚合物层上形成具有多个光栅线的第一纳米压印图形；及将所述聚合物层加热至软化，再对所述第一纳米压印图形进行第二次压印，以得到更精细的纳米压印图形。
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