[发明专利]一种靶材组件、溅射系统及靶材层消耗状况的监控方法有效
| 申请号： | 201810011237.8 | 申请日： | 2018-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN108149207B | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 林琳琳 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种靶材组件、溅射系统及靶材层消耗状况的监控方法，涉及显示技术领域，可及时掌握靶材层的消耗程度，防止出现靶材层使用过量或使用不够充分的情况。该靶材组件包括：基板、设置在所述基板表面的靶材层；所述靶材组件还包括：内嵌在所述靶材层中或者设置在所述基板与所述靶材层之间的吸附层，所述吸附层配置为吸附预设气体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 组件 溅射 系统 靶材层 消耗 状况 监控 方法 | ||
【主权项】：
一种靶材组件，包括：基板、设置在所述基板表面的靶材层；其特征在于，所述靶材组件还包括：内嵌在所述靶材层中或者设置在所述基板与所述靶材层之间的吸附层，所述吸附层配置为吸附预设气体。
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