[发明专利]一种1064nm波段高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜制作方法在审

专利信息
申请号: 201810012130.5 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN108287413A 公开(公告)日: 2018-07-17
发明(设计)人: 刘瑞斌;姜海 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G02B27/28 分类号: G02B27/28;G02B27/10
代理公司: 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 王民盛
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种1064nm高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜的制作方法,属于光学薄膜领域。该多功能分光镜包括有透明基底,该透明基底的两侧均镀有膜结构,其中一侧镀有偏振分光膜,另一侧镀有增透膜,分光镜上两侧膜结构的入射角均定义为45±3°。该分光镜要求可分别应用到调Q激光器和大功率激光系统中,也可以应用到它们的集成系统中,增加消光比,并且能够减少偏振分光镜更换频率,降低成本。
搜索关键词: 偏振分光镜 分光镜 消光比 膜结构 半角 基底 损伤 大功率激光系统 偏振分光膜 调Q激光器 更换频率 光学薄膜 集成系统 透明 入射角 增透膜 波段 制作 应用
【主权项】:
1.一种高消光比高损伤阈值半角偏振分光镜,其特征在于:该高损伤阈值分光镜包括有透明基底,所述透明基底的两侧均镀有膜结构,其中一侧镀有偏振分光膜,另一侧镀有增透膜,所述分光镜两侧膜结构的入射角均定义为45°±3°;所述的分光膜对应波长为1064nm,同时调整设计曲线的中心波长能够将对应波长调整到从400‑2000nm中的任一点波长;所述的高损伤阈值为激光功率10J,脉宽10ns,波长对应在1064nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810012130.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top