[发明专利]提高温度均匀度的基座有效
申请号: | 201810027063.4 | 申请日: | 2018-01-11 |
公开(公告)号: | CN108321114B | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 朴相明;沈国宝 | 申请(专利权)人: | 合肥微睿光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了提高温度均匀度的基座,包括本体,本体的内部设置固定有电热板,电热板的底端开设有插入槽,插入槽的一端与连接槽连通,连接槽开设在电热板的中部,且电热板的中部开设有热感应器槽,本体的底端设置固定有盖板,盖板的内部开设有滑槽,滑槽顶端的内壁和滚球滚动连接,滚球安装在支撑架的顶端,支撑架的一侧设置固定有补助电热板,补助电热板的内部铺设有补助电热线,支撑架的一端和转轴的一端焊接固定,转轴穿插过盖板的一端和螺帽的一端焊接固定。本发明提高温度均匀度的基座,提高电热板中心部位的温度,从而提高整体的温度均匀度,以此得到在蒸镀工艺中显著降低被处理物不良发生率的效果。 | ||
搜索关键词: | 提高 温度 均匀 基座 | ||
【主权项】:
1.提高温度均匀度的基座,包括本体(1),其特征在于,所述本体(1)的内部设置固定有电热板(2),电热板(2)的底端开设有插入槽(11),插入槽(11)的一端与连接槽(10)连通,连接槽(10)开设在电热板(2)的中部,且电热板(2)的中部开设有热感应器槽(9),本体(1)的底端设置固定有盖板(3),盖板(3)的内部开设有滑槽(8),滑槽(8)顶端的内壁和滚球(12)滚动连接,滚球(12)安装在支撑架(4)的顶端,支撑架(4)的一侧设置固定有补助电热板(5),补助电热线(13)的内部铺设有补助电热线(13),支撑架(4)的一端和转轴(7)的一端焊接固定,转轴(7)穿插过盖板(3)的一端和螺帽(6)的一端焊接固定。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造