[发明专利]一种掩模板、显示基板以及显示装置在审

专利信息
申请号: 201810043420.6 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN108227368A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 张小祥;郭会斌;宋勇志;刘明悬;徐文清;李小龙;吴祖谋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F1/26 分类号: G03F1/26
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示装置制作技术领域,公开了一种掩模板、显示基板以及显示装置,以提高显示装置的分辨率,从而提高显示装置的显示品质。掩模板包括:基板、以及位于基板一侧且相对设置的第一曝光结构和第二曝光结构,其中:第一曝光结构包括第一透光膜层和第一遮光膜层,第一遮光膜层在基板上的正投影落入第一透光膜层在基板上的正投影内;第二曝光结构包括第二透光膜层和第二遮光膜层,第二遮光膜层在基板上的正投影落入第二透光膜层在基板上的正投影内;第一曝光结构靠近第二曝光结构的侧边具有第一锯齿状结构,第二曝光结构靠近第一曝光结构的侧边具有第二锯齿状结构。
搜索关键词: 曝光结构 基板 显示装置 透光膜层 遮光膜层 正投影 掩模板 锯齿状结构 显示基板 侧边 显示品质 相对设置 分辨率 制作
【主权项】:
1.一种掩模板,其特征在于,包括基板、以及位于所述基板一侧且相对设置的第一曝光结构和第二曝光结构,其中:所述第一曝光结构包括第一透光膜层和第一遮光膜层,所述第一遮光膜层在所述基板上的正投影落入所述第一透光膜层在所述基板上的正投影内;所述第二曝光结构包括第二透光膜层和第二遮光膜层,所述第二遮光膜层在所述基板上的正投影落入所述第二透光膜层在所述基板上的正投影内;所述第一曝光结构靠近所述第二曝光结构的侧边具有第一锯齿状结构,所述第二曝光结构靠近所述第一曝光结构的侧边具有第二锯齿状结构。
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