[发明专利]多晶硅引晶涂层的制备方法及铸锭坩埚有效
申请号: | 201810046304.X | 申请日: | 2018-01-17 |
公开(公告)号: | CN108342774B | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 周建军;龙昭钦;毛亮亮;冷金标;丁文辉;周成;雷鸣;周慧敏;徐志群 | 申请(专利权)人: | 晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 何世磊 |
地址: | 334100 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明提供了一种多晶硅引晶涂层的制备方法及铸锭坩埚。上述多晶硅引晶涂层的制备方法及铸锭坩埚,通过设置第一石英砂层和第二石英砂层,形成高低有差的引晶层,以使铸锭时产生细小晶粒,且第一石英砂层和第二石英砂层为异质引晶,因此可以不再利用底部籽晶引晶(同质引晶),避免籽晶熔完的风险(籽晶熔完会导致晶粒过大,整锭良率不合格),因此不需要安排测试人员进行实时测试;其次通过上述工艺,在引晶过程中第一石英砂层和第二石英砂层全部熔化,多晶硅的尾部不会产生孔洞,在切除尾部红区时,因尾部较为平整,只需切除一次即可,有效降低生产成本和后端加工成本。 | ||
搜索关键词: | 多晶 硅引晶 涂层 制备 方法 铸锭 坩埚 | ||
【主权项】:
1.一种多晶硅引晶涂层的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:在坩埚的内侧壁涂设一层SiO2后,将所述坩埚放入无尘车间静置;将质量比为1:1的氮化硅和纯水混合后充分搅拌10‑20min以形成第一混合物,并将所述第一层混合物均匀填满所述坩埚的底部,以形成第一涂层,然后静置20‑40min;将质量比为3:6:1的氮化硅、纯水以及硅溶胶混合后充分搅拌15‑25min以形成第二混合物,并将所述第二混合物均匀设于所述第一涂层上端,以形成第二涂层,并立即将与第二混合物中氮化硅的质量比为5:1的石英砂均匀设于所述第二涂层的上端,以形成第一石英砂层;静置预设时间后,再将与第二混合物中氮化硅的质量比为5:1的石英砂均匀设于所述第一石英砂层上端,以形成第二石英砂层,并将所述坩埚进行微波干燥,温度设定为60℃‑70℃,干燥的时长为15‑25min。
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