[发明专利]用于羟磷灰石的成像方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201810058927.9 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108344738B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 范志民;王海涛;许德冰;韩冰;张海鹏;贾泓瑶;杜烨 申请(专利权)人: 翰飞骏德(北京)医疗科技有限公司
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;G01N1/28
代理公司: 北京市合德专利事务所 11244 代理人: 王文会;刘榜美
地址: 100070 北京市丰台*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及光谱成像领域,尤其是一种用于羟磷灰石的成像方法及其装置,用于羟磷灰石的成像方法通过如下步骤实现,步骤一:将样品制作成厚度为2‑4mm的切片,步骤二:激光器在关闭状态下,由摄像机对切片完成第一次成像,步骤三:打开激光器,由摄像机对切片完成第二次成像,步骤四:把两次的图像相减,得到减影图像,成像装置,它包括计算机、摄像装置、支撑装置和激光器,所述摄像装置与计算机通过信号连接,摄像装置安装在支撑装置的顶部,所述激光器安装在支撑装置的底部,激光器的轴线与摄像装置的轴线重合,本方案可以方便准确的用于羟磷灰石的成像,节约时间,提高工作效率。
搜索关键词: 用于 磷灰石 成像 方法 及其 装置
【主权项】:
1.一种用于羟磷灰石的成像方法,其特征在于:所述方法是通过如下步骤实现的:步骤一:准备切片和装置,将样品制作成厚度为2‑4mm的切片,把切片放置在载物台上,移动摄像机镜头对准切片,调整激光器位置,使位于切片下方的激光器对准切片;步骤二:一次成像,激光器在关闭状态下,切片及周围环境散射的光波信号通过摄像机上的截止深度为OD6的滤光器过滤后,穿透滤光器的光波投射到CMOS图像传感器上,再送到数字信号处理芯片上加工处理,完成第一次成像;步骤三:二次成像,打开激光器,激光器发出的光波透过切片,切片及周围环境散射的光波信号,通过摄像机上的截止深度为OD6的滤光器过滤,穿透滤光器的光波信号通过摄像机再次转换成数字信号传输到计算机上,并在显示器上显示图像,完成第二次成像;步骤四:生成减影图像,把两次的图像在计算机中进行图像相减,即在两幅图像之间对应像素做减法运算,得到有容差值的减影图像,减影图像为切片样品中存在的羟磷灰石。
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