[发明专利]纯碳化硅陶瓷膜元件及其制备方法在审
申请号: | 201810075163.4 | 申请日: | 2018-01-26 |
公开(公告)号: | CN108261928A | 公开(公告)日: | 2018-07-10 |
发明(设计)人: | 李双;田贵山;孟子霖;张茜;魏春城;周丽娟 | 申请(专利权)人: | 山东理工大学 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D69/10;B01D67/00;C04B38/00;C04B35/565;C04B35/622 |
代理公司: | 北京迎硕知识产权代理事务所(普通合伙) 11512 | 代理人: | 张群峰 |
地址: | 255086 山东省淄*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种纯碳化硅陶瓷膜元件及其制备方法,包括如下步骤:支撑体的制备、过渡层的制备、以及表面膜层的制备。其中,不同层采用不同粒径的碳化硅粉体和聚碳硅烷制备而成,且使用聚碳硅烷作为碳化硅的前驱体。根据本发明获得的纯碳化硅陶瓷膜元件,由于使用聚碳硅烷作为碳化硅的前驱体,聚碳硅烷能在较低的热处理温度下分解产生高活性碳化硅,分解产生的碳化硅作为高温结合剂连接初始碳化硅,因此该方法制备的全碳化硅陶瓷膜具有抗折强度高、烧结温度低的特点。此外,所制备得到的碳化硅陶瓷膜由纯碳化硅组成,表现为较强的亲水憎油特性;良好的机械性能,较高的膜通量,以及很强的化学稳定性。 | ||
搜索关键词: | 制备 碳化硅 纯碳化硅 聚碳硅烷 陶瓷膜元件 碳化硅陶瓷膜 前驱体 机械性能 分解 高温结合剂 化学稳定性 碳化硅粉体 热处理 表面膜层 连接初始 烧结 高活性 过渡层 膜通量 支撑体 抗折 粒径 亲水 憎油 表现 | ||
【主权项】:
1.一种纯碳化硅陶瓷膜元件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,支撑体的制备:按照质量比100:(20~40):(3~5):(10~15)称取碳化硅粉Ⅰ、聚碳硅烷、结合剂和造孔剂,与水配置成泥料并成型,经过烧结得到纯碳化硅陶瓷膜支撑体,步骤2,过渡层的制备:按照质量比100:(30~50):(20~40):(10~20)称取碳化硅粉Ⅱ、聚碳硅烷、聚乙烯醇和聚丙烯酸,与水混合得到过渡层浆料,使所述过渡层浆料被覆在所述步骤1的纯碳化硅陶瓷膜支撑体的内孔表面以形成被覆层,此后进行真空烧结以在所述支撑体的内孔表面形成过渡层,步骤3,表面膜层的制备:按照质量比100:(40~60):(15~25):(5~10)称取碳化硅粉Ⅲ、聚碳硅烷、聚乙烯醇和聚丙烯酸,与水混合得到涂膜液,使所述涂膜液在所述步骤2得到的支撑体中流动,以在所述过渡层上形成涂膜层,此后进行真空烧结以在所述过渡层上形成表面膜层,其中,所述碳化硅粉Ⅰ的平均粒径>所述碳化硅粉Ⅱ的平均粒径>所述碳化硅粉Ⅲ的平均粒径。
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