[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，具备：第一供给配管，从第一分支部向第一药液喷嘴引导处理液；第一返回配管，从第一分支部向容器引导处理液；第一压力损失规定单元，以使第一供给配管内的压力损失大于第一返回配管内的压力损失的方式规定压力损失；以及第一喷出阀，在第一喷出执行状态和第一喷出停止状态之间进行切换，所述第一喷出执行状态是使第一返回配管内的压力损失大于第一供给配管内的压力损失，以使处理液从共用配管向第一供给配管流动的状态，所述第一喷出停止状态是使第一返回配管内的压力损失小于第一供给配管内的压力损失，以使处理液从共用配管向第一返回配管流动的状态。

主权项

1.一种基板处理装置，其中，具备：基板保持单元，保持基板；第一喷嘴，向由所述基板保持单元保持的基板喷出处理液；容器，贮存向所述第一喷嘴供给的处理液；循环配管，使所述容器内的处理液循环；送液装置，向所述循环配管输送所述容器内的处理液；过滤器，从流经所述循环配管的处理液去除异物；共用配管，从所述循环配管向第一分支部引导所述循环配管内的处理液；第一供给配管，以使处理液从所述第一分支部向所述第一喷嘴流动的方式常开，从所述第一分支部向所述第一喷嘴引导由所述共用配管引导的处理液；第一返回配管，从所述第一分支部向所述容器引导由所述共用配管引导的处理液；第一压力损失规定单元，以所述第一供给配管内的压力损失大于所述第一返回配管内的压力损失的方式规定压力损失；以及第一喷出阀，在第一喷出执行状态和第一喷出停止状态之间进行切换，所述第一喷出执行状态是通过减少所述第一返回配管的流路面积，使所述第一返回配管内的压力损失大于所述第一供给配管内的压力损失，以使所述共用配管内的处理液从所述共用配管向所述第一供给配管流动的状态，所述第一喷出停止状态是通过相比所述第一喷出执行状态时的所述第一返回配管的流路面积增加所述第一返回配管的流路面积，使所述第一返回配管内的压力损失小于所述第一供给配管内的压力损失，以使所述共用配管内的处理液从所述共用配管向所述第一返回配管流动的状态。