[发明专利]掩模组件的制造方法有效
| 申请号： | 201810089595.0 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN108374147B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 金桢国;任星淳;黄圭焕;金圣哲;文英慜 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/02;C23C14/14;C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及能够提升图案精度的掩模组件的制造方法，该方法包括以下步骤：准备载体衬底；在载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；在载体衬底和第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在载体衬底上沉积金属层；去除布置在第一光致抗蚀剂图案和第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将载体衬底与金属层分离以制造分割掩模，其中，第一光致抗蚀剂为正(positive)性光致抗蚀剂，而第二光致抗蚀剂为负(negative)性光致抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 模组 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.掩模组件制造方法，包括以下步骤：准备载体衬底；在所述载体衬底上涂覆第一光致抗蚀剂；对所述第一光致抗蚀剂进行图案化以形成第一光致抗蚀剂图案；所述载体衬底和所述第一光致抗蚀剂上涂覆第二光致抗蚀剂；对所述第二光致抗蚀剂进行图案化以形成第二光致抗蚀剂图案；在所述载体衬底上沉积金属层；去除布置在所述第一光致抗蚀剂图案和所述第二光致抗蚀剂图案上的金属层；以及将所述载体衬底与所述金属层分离以制造分割掩模，其中，所述第一光致抗蚀剂为正性光致抗蚀剂，且所述第二光致抗蚀剂为负性光致抗蚀剂。
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