[发明专利]一种改善电极环粘附性的PV膜层及粘附性改善方法在审

专利信息
申请号: 201810092423.9 申请日: 2018-01-31
公开(公告)号: CN108321276A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 胡卫 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44
代理公司: 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 代理人: 郑隽;吴婷
地址: 423038 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种改善电极环粘附性的PV膜层及电极环粘附性的改善方法,所述PV膜层为:外延片的ITO环外沉积SiNO薄膜层作为透明绝缘层。因SiNO膜层能完整覆盖在电极外表面,不会产生崩裂现象,有效保护电极,防止被焊球带起,从而降低ITO环上的PAD在受热时脱落的几率。
搜索关键词: 电极环 粘附性 电极外表面 透明绝缘层 粘附性改善 崩裂现象 受热 电极 薄膜层 外延片 膜层 球带 沉积 覆盖
【主权项】:
1.一种改善电极环粘附性的PV膜层,其特征在于,外延片的ITO环外和裸露的N‑GaN层外沉积SiNO薄膜层作为透明绝缘层。
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