[发明专利]一种利用原子力显微镜测量极片表面SEI膜厚度的方法在审

专利信息
申请号: 201810113022.7 申请日: 2018-02-05
公开(公告)号: CN108535516A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 史瑞星;赵永锋;李云峰;许飞;李莉;李小涛;刘兴福;谭倩;戚凤晓;翟婷 申请(专利权)人: 多氟多(焦作)新能源科技有限公司
主分类号: G01Q60/26 分类号: G01Q60/26
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 张兵兵
地址: 454191 河南省焦作市工*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种利用原子力显微镜测量极片表面SEI膜厚度的方法。该方法包括:1)将经过充放电的极片在原子力显微镜下以PEAKFORCE QNM模式对其表面形态进行测量,得到初始表面形态数据;2)采用CONTACT模式对表面进行刻蚀,再切换到PEAKFORCE QNM模式对刻蚀后的表面形态进行测量,得到刻蚀后表面形态数据;3)重复步骤2),直至刻蚀后表面形态数据不发生变化,切换到PEAKFORCE QNM模式对SEI膜的基体的表面形态进行测量,得到基体表面形态数据;4)根据初始表面形态数据和基体表面形态数据的差异,确定SEI膜的厚度。该方法通过交替使用两种测量模式提高了SEI膜厚度检测的准确性。
搜索关键词: 表面形态 形态数据 刻蚀 原子力显微镜 测量极片 基体表面 测量 后表面 测量模式 厚度检测 交替使用 充放电 极片 重复
【主权项】:
1.一种利用原子力显微镜测量极片表面SEI膜厚度的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将经过充放电的极片在原子力显微镜下以PEAKFORCE QNM模式对其表面形态进行测量,得到初始表面形态数据;2)采用CONTACT模式对表面进行刻蚀,再切换到PEAKFORCE QNM模式对刻蚀后的表面形态进行测量,得到刻蚀后表面形态数据;3)重复步骤2),直至刻蚀后表面形态数据不发生变化,切换到PEAKFORCE QNM模式对SEI膜的基体的表面形态进行测量,得到基体表面形态数据;4)根据初始表面形态数据和基体表面形态数据的差异,确定SEI膜的厚度。
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