[发明专利]一种投影物镜和光刻曝光系统有效
| 申请号： | 201810113896.2 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN110119070B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 侯宝路 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/00 | 分类号： | G02B13/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影物镜和光刻曝光系统。该投影物镜包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，投影物镜满足以下关系式：0.3F2/F10.8；0.1F2/F30.4；0.2F1/F30.6；0.1|f1/f2|0.4；‑0.5f3/f4‑0.2。本发明实施例提供的投影物镜和光刻曝光系统，可以解决投影物镜的投影视场较小，同时不能兼容汞灯光源和LED光源的问题，实现较好像质的宽光谱和大视场的物镜投影，增加曝光系统的曝光视场，提高光刻机的光刻产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 物镜 光刻 曝光 系统 | ||
【主权项】：
1.一种投影物镜，其特征在于，包括沿光路依次设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，所述第一透镜组包括沿光路依次设置的第一子透镜组和第二子透镜组，所述第三透镜组包括沿光路依次设置的第三子透镜组和第四子透镜组，所述投影物镜满足以下关系式：0.3<F2/F1<0.8；0.1<F2/F3<0.4；0.2<F1/F3<0.6；0.1<|f1/f2|<0.4；‑0.5<f3/f4<‑0.2；其中，所述第一透镜组、所述第二透镜组和所述第三透镜组的焦距分别为F1、F2和F3，所述第一子透镜组和所述第二子透镜组的焦距分别为f1和f2，所述第三子透镜组和所述第四子透镜组的焦距分别为f3和f4。
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