[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板及其制造方法在审
申请号: | 201810115232.X | 申请日: | 2018-02-06 |
公开(公告)号: | CN108333844A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 徐海峰;史大为;彭利满;王文涛;杨璐;姚磊;王金锋;闫雷;薛进进;候林;闫芳;司晓文;满志金;侯耀达;李伊;赵丽珍;王磊 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 牛南辉;李峥 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种阵列基板及其制造方法、显示面板及其制造方法。阵列基板:包括:衬底;在所述衬底上的有源层;在所述有源层上的第一绝缘层;在所述第一绝缘层上的栅极电极和第一电极,其中,所述第一电极在所述衬底上的投影与所述有源层在所述衬底上的投影不重叠;在所述第一电极上的第三绝缘层,所述第三绝缘层在所述衬底上的投影与所述有源层在所述衬底上的投影不重叠;在所述第三绝缘层上的第二电极;以及在所述栅极电极和所述第二电极上的第二绝缘层。 | ||
搜索关键词: | 绝缘层 衬底 源层 投影 第一电极 阵列基板 第二电极 显示面板 栅极电极 不重叠 制造 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板:包括:衬底;在所述衬底上的有源层;在所述有源层上的第一绝缘层;在所述第一绝缘层上的栅极电极和第一电极,其中,所述第一电极在所述衬底上的投影与所述有源层在所述衬底上的投影不重叠;在所述第一电极上的第三绝缘层,所述第三绝缘层在所述衬底上的投影与所述有源层在所述衬底上的投影不重叠;在所述第三绝缘层上的第二电极;以及在所述栅极电极和所述第二电极上的第二绝缘层。
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