[发明专利]一种非导磁平面抛光装置及抛光方法在审
申请号: | 201810125489.3 | 申请日: | 2018-02-08 |
公开(公告)号: | CN108311959A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 刘顺;许召宽;韩冰;刘冬冬 | 申请(专利权)人: | 辽宁科技大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00 |
代理公司: | 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 | 代理人: | 张群 |
地址: | 114044 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及非导磁面抛光技术领域,尤其涉及一种非导磁平面抛光装置。包括上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计;上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置,测力计固定在铣床工作台上,支撑装置固定在测力计上,下抛光体安装在支撑装置上,上抛光体固定在铣床的转轴上;上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转,测力计测量法向力与扭矩,进而调整工件与磁极距离及转速。本发明适用于非导磁平面,可对利用磁研磨法无法进行抛光的非导磁平面进行有效地处理;成本低、效率高;通过“磁力刷”的刮擦、翻滚作用完成对整个工件的抛光,保证了工件的表面质量与平面度。 | ||
搜索关键词: | 抛光体 测力计 非导磁 支撑装置 抛光 平面抛光装置 铣床 抛光技术领域 磁极距离 调整工件 翻滚作用 同步旋转 依次设置 磁力刷 磁研磨 法向力 平面度 有效地 磁耦 刮擦 转轴 测量 合同 保证 | ||
【主权项】:
1.一种非导磁平面抛光装置,其特征在于:包括上抛光体、下抛光体、支撑装置以及测力计;上抛光体、下抛光体、支撑装置、测力计自上而下依次设置,测力计固定在铣床工作台上,支撑装置固定在测力计上,下抛光体安装在支撑装置上,上抛光体固定在铣床的转轴上;上抛光体与下抛光体通过磁耦合同轴同步旋转,测力计测量法向力与扭矩,进而调整工件与磁极距离及转速。
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