[发明专利]一种低反射率单晶硅片的制绒方法有效
| 申请号： | 201810158233.2 | 申请日： | 2018-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN108360071B | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 蔡国华 | 申请（专利权）人： | 温岭汉德高分子科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 317523 浙江省台*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及单晶硅片制备领域，公开了一种低反射率单晶硅片的制绒方法，包括：1）将壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇溶解到水中，混合均匀；2）将制绒添加剂加到碱溶液中，混合均匀；3）将单晶硅片置入制绒液中进行制绒。本发明采用壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇等作为制绒添加剂原料，组分绿色环保，制绒时间短，制绒后所获得的单晶硅片上四面方锥体均匀，硅片反射率低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射率 单晶硅 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低反射率单晶硅片的制绒方法，其特征在于包括以下步骤：1）制绒添加剂的配制：依次将壳聚糖‑聚2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸钠共聚物、甲基甘氨二乙酸钠、3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇、苯氧乙醇溶解到水中，混合均匀；2）制绒液的配制：将步骤1）制得的制绒添加剂加到碱溶液中，混合均匀；3）将单晶硅片置入步骤2）制得的制绒液中进行制绒。
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