[发明专利]波导元件、发光装置以及波导元件的制造方法在审
申请号: | 201810160351.7 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN108873162A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 彦坂年辉 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及波导元件、发光装置以及波导元件的制造方法,提供能够提高效率的波导元件、发光装置以及波导元件的制造方法。根据实施方式,波导元件包括第1晶体区域以及第2晶体区域。所述第1晶体区域在第1方向上延伸,包括第1氮化物半导体。所述第2晶体区域在所述第1方向上延伸,包括第2氮化物半导体,并且与所述第1晶体区域连续。从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域的第2方向与所述第1方向交叉。所述第1晶体区域的<0001>方向是从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域。所述第2晶体区域的<0001>方向是从所述第2晶体区域向所述第1晶体区域。 | ||
搜索关键词: | 晶体区域 波导元件 发光装置 氮化物半导体 制造 方向交叉 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种波导元件,具备:第1晶体区域,在第1方向上延伸,包括第1氮化物半导体;以及第2晶体区域,在所述第1方向上延伸,包括第2氮化物半导体,并且与所述第1晶体区域连续,从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域的第2方向与所述第1方向交叉,所述第1晶体区域的<0001>方向是从所述第1晶体区域向所述第2晶体区域,所述第2晶体区域的<0001>方向是从所述第2晶体区域向所述第1晶体区域。
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