[发明专利]基板处理装置及基板保持装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置及基板保持装置。基板保持部的板状的基部具有与中心轴垂直的上表面。支承部在基部的中央部的周围呈周状地配置，并从基部的上表面向上方突出。支承部用于支承基板的下表面。具有挠性的密封部在支承部的周围以整周配置。密封部的上端部位于支承部的上侧。当基板保持部吸附基板时，在密封部的上端部与基板的下表面接触的状态下，经由吸引口吸引在基部与基板之间存在的气体。由此，基板使密封部向下弯曲并靠近基部而与支承部接触。结果，即使在基板翘曲的情况下，也能良好地保持基板。

主权项

1.一种基板处理装置，用于处理基板，其中，所述基板处理装置具有：基板保持部，从基板的下侧将基板保持为水平状态；吸引部，吸引在所述基板保持部与所述基板之间存在的气体，从而使所述基板吸附在所述基板保持部上；以及基板旋转机构，使所述基板保持部以朝向上下方向的中心轴为中心旋转，所述基板保持部具有：板状的基部，具有与所述中心轴垂直的上表面；吸引口，配置在所述基部的所述上表面，并与所述吸引部连接；支承部，在所述基部的中央部的周围呈周状地配置，从所述基部的所述上表面向上方突出来支承所述基板的下表面；以及具有可挠性的密封部，在所述支承部的周围以整周配置，所述密封部的上端部比所述支承部更靠上侧，当所述基板保持部吸附所述基板时，在所述密封部的所述上端部与所述基板的所述下表面接触的状态下，经由所述吸引口吸引在所述基部与所述基板之间存在的气体，由此所述基板一边使所述密封部向下弯曲，一边靠近所述基部而与所述支承部接触。