[发明专利]层状硅酸铜的扩孔方法有效

专利信息
申请号: 201810165326.8 申请日: 2018-02-28
公开(公告)号: CN108328622B 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 孟祥祺;施岩;赵悦;陈世安;黎胜可;赵晓龙;赵志航;张霜 申请(专利权)人: 辽宁石油化工大学
主分类号: C01B33/20 分类号: C01B33/20;B82Y40/00;B01J35/10;B01J21/16;B01J23/72
代理公司: 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 代理人: 郭元艺
地址: 113001 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属固体催化剂扩孔方法领域,尤其涉及一种利用磷酸二氢氨作为扩孔剂的层状硅酸铜的扩孔方法,包括如下步骤:(1)将一定量的铜源溶于去离子水中;向溶液中加入将一定量的磷酸氢二铵,使其完全溶解;(2)向步骤(1)所得溶液中加入一定量氨水,使其形成铜氨络合物;(3)加入一定量质量浓度为25%~30%的硅溶胶溶液,搅拌老化;加热,蒸出氨气得到沉淀物;(4)将步骤(3)所得沉淀物过滤,洗涤,煅烧,即得目的产物。本发明工艺简单,目的产品质量稳定,重复性好,不影响铜物种的分布及原有催化特性。
搜索关键词: 层状 硅酸 扩孔 方法
【主权项】:
1.层状硅酸铜的扩孔方法,其特征在于,依次按如下步骤实施:(1)将一定量的铜源溶于去离子水中;向溶液中加入将一定量的磷酸氢二铵,使其完全溶解;(2)向步骤(1)所得溶液中加入一定量氨水,使其形成铜氨络合物;(3)加入一定量质量浓度为25%~30%的硅溶胶溶液,搅拌老化;加热,蒸出氨气得到沉淀物;(4)将步骤(3)所得沉淀物过滤,洗涤,煅烧,即得目的产物。
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