[发明专利]一种盖板的制备方法及盖板有效
| 申请号： | 201810167886.7 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN108424002B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 杨勇 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;H04M1/02 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种盖板的制备方法，包括提供一玻璃基板；在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜，并对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻，用以所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成有折射率渐变的凸锥状减反射微结构。实施本发明，利用金属离子替代传统纳米压印工艺中压印胶材，增大压印蚀刻工艺中的蚀刻选择比，保证微结构具有较大的深宽比，实现在硬度较硬的玻璃盖板表面加工蛾眼微结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 盖板 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种盖板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一玻璃基板；在所述玻璃基板的上表面和下表面之中至少一个上形成有由金属颗粒形成的蚀刻掩膜，并对所述玻璃基板形成有蚀刻掩膜的表面进行蚀刻，用以所述玻璃基板在对应蚀刻的表面上生成有折射率渐变的凸锥状减反射微结构。
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