[发明专利]一种硅片清洗液及硅片清洗方法在审
| 申请号： | 201810167905.6 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN108384667A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 刘长明;金井升;张昕宇;金浩 | 申请（专利权）人： | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;C11D3/39;B08B3/08;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 314416 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种硅片清洗液及硅片清洗方法，该硅片清洗液包括氢氟酸、盐酸、过氧化氢溶液和去离子水，该硅片清洗方法包括在25℃至75℃的温度下，利用上述硅片清洗液对金属催化制绒和单质金属离子化之后的硅片进行后清洗。利用上述硅片清洗液及硅片清洗方法，能够在低成本的基础上更好的清洗掉硅片表面的金属，降低金属污染带来的复合，提升电池的光电转换效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片清洗液 硅片清洗 清洗 光电转换效率 过氧化氢溶液 单质金属 硅片表面 金属催化 金属污染 去离子水 低成本 离子化 氢氟酸 硅片 盐酸 电池 复合 金属 申请 | ||
【主权项】：
1.一种硅片清洗液，其特征在于，包括氢氟酸、盐酸、过氧化氢溶液和去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司，未经浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810167905.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
