[发明专利]紫外线传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810182696.2 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108493339A 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 李胜夏;魏勤;蓝河 申请(专利权)人: 上海幂方电子科技有限公司
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201612 上海市松江*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 公开了一种紫外线传感器及其制备方法,在柔性基底上依次打印梳状结构的电极和有机半导体层,相邻的电极之间形成有沟道,所述有机半导体层填充所述沟道。本公开可以简单、快速的制备紫外线传感器,有效地降低了紫外线传感器的成本,所得紫外线传感器响应速度快,具有良好的循环稳定性。
搜索关键词: 紫外线传感器 制备 有机半导体层 电极 沟道 循环稳定性 柔性基底 梳状结构 有效地 填充 打印 响应
【主权项】:
1.一种紫外线传感器,包括:柔性基底;多个电极,以相互间隔的方式设置于所述柔性基底上,相邻电极之间形成有沟道;以及,有机半导体层,填充所述沟道;其中,所述电极通过打印导电材料形成,所述有机半导体层通过打印有机半导体混合溶液形成。
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