[发明专利]光学成像系统及电子装置有效

专利信息
申请号: 201810183269.6 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108732710B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 赖建勋;张永明;蔡振宏;陈映蓉;刘耀维;杨蕙亘 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B3/00
代理公司: 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 智云<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 中国台湾中部科学工业*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要: 发明公开一种光学成像系统及电子装置,所述光学成像系统包括:一成像透镜组,其包括至少二片具有屈折力的透镜、一成像面;以及一第一镜片定位组件。当满足特定条件时,本发明的光学成像系统可通过温度补偿的透镜与机构组件的设计,进而有效抑制光学成像系统的焦距受温度变化的程度同时维持成像的质量,以应用各式电子产品。
搜索关键词: 光学成像系统 透镜 电子装置 成像透镜组 定位组件 机构组件 温度补偿 有效抑制 焦距 成像面 屈折力 镜片 电子产品 成像 应用
【主权项】:
1.一种光学成像系统,其特征在于,包括:/n一成像透镜组,其包括至少二片具有屈折力的透镜;以及/n一成像面;/n其中所述成像透镜组至少一片透镜具有正屈折力且所述成像透镜组在一标准温度ST时具有一标准有效焦距FST,其中,所述标准温度ST为摄氏25℃,所述成像透镜组的入射光瞳直径为HEP,所述成像透镜组的最大可视角度的一半为HAF,所述成像透镜组在所述标准温度ST时,其最接近物侧的透镜的物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,最接近所述成像面的透镜的像侧面至所述成像面于光轴上具有一距离BHOS,所述成像透镜组在一第一工作温度WT1时,最接近所述成像面的透镜的像侧面至所述成像面于光轴上具有一距离BHOS1,其满足下列条件:2.0≤FST/HEP≤2.8;36deg≤HAF≤69.2861deg;WT1≤100℃;以及BHOS1/BHOS≥0.9。/n
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