[发明专利]用于空间上测量纳米级结构的方法和设备有效
| 申请号： | 201810188076.X | 申请日： | 2018-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN108572164B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | S·W·黑尔;Y·艾勒斯;K·格沃施;F·巴尔扎罗蒂 | 申请（专利权）人： | 马克斯-普朗克科学促进学会 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周家新 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种空间上测量样品中的多个纳米级结构的方法，所述包括步骤：利用荧光标记(1)在不同位置处标记各个结构；将各个结构耦接(2)到各个定位辅助件，所述定位辅助件在样品中的位置是已知的；利用激发光激发荧光标记从而发射荧光，其中，激发光的强度分布具有局部最小值；将局部最小值布置(3)在围绕相应的定位辅助件的位置的近距离范围中的不同位置处，所述近距离范围的尺寸不大于激发光的波长下的衍射极限；针对各个荧光标记以及针对最小值的不同位置单独地记录从样品发射出的荧光；以及从记录的荧光的强度确定各个荧光标记在样品中的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 空间 测量 纳米 结构 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种空间上测量样品(13)中的多个纳米级结构的方法，所述方法包括步骤：‑利用荧光标记(8、9)在不同位置处标记(1)各个结构；‑利用激发光(25)激发荧光标记(8、9)从而发射荧光(42)，其中，‑激发光(25)的强度分布(24)‑或者对通过荧光标记(8、9)发射荧光具有影响的另外的光的强度分布(48)包括局部的最小值(26)，所述最小值布置在样品(13)中的不同位置处；‑既针对各个荧光标记(8、9)也针对最小值(26)的不同位置(20、21、22、23)单独地记录样品(13)发射出的荧光(42)；以及‑从针对相应的荧光标记(8、9)针对最小值(26)的不同位置(20、21、22、23)记录的荧光(42)的强度，确定(5)各个荧光标记(8、9)在样品(13)中的位置，‑其中，所述方法包括将各个结构(7)耦接(2)到各个定位辅助件(12)的另外的步骤，所述定位辅助件在样品(13)中的位置是‑已知的，或者‑在耦接(2)的步骤之后从由定位辅助件(12)反射的光确定，以及‑其中，激发的步骤包括将局部的最小值(26)在不同位置(20、21、22、23)处布置(3)在近距离范围(18)中，所述近距离范围围绕相应的定位辅助件(19)的位置，近距离范围(18)的尺寸不大于激发光(25)的波长和荧光(42)的波长下的衍射极限。
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