[发明专利]光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法有效
| 申请号： | 201810194565.6 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108572404B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 槙野宪治;中山宽晴;龟野优 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法。根据本发明的光学构件包括在基材上的包含多个链状颗粒且在550nm的波长下的折射率为1.21以上且1.27以下的膜。所述膜以1.0mg/cm |
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| 搜索关键词： | 光学 构件 摄像 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学构件，其特征在于包括：基材；和在所述基材上的包含多个链状颗粒且在550nm的波长下的折射率为1.20以上且1.27以下的膜，其中所述膜以在1.0mg/cm3以上且2.8mg/cm3以下的范围内的量包括具有醚键或酯键且具有碳原子数为4至7的支化结构的醇。
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