[发明专利]制作半导体元件及显示器的阵列基板的方法

摘要

本发明公开了一种制作半导体元件及显示器的阵列基板的方法，制作半导体元件的方法包含：提供具有第一图案的光罩；通过此光罩在基板上形成图案化材料层，其中图案化材料层包含第一突出缺陷以及对应第一图案的正常图案层；通过光罩形成第一图案化光阻层覆盖正常图案层，第一突出缺陷暴露于第一图案化光阻层之外；以及使用第一图案化光阻层为遮罩蚀刻图案化材料层的第一突出缺陷。本发明提供的半导体元件的制造方法可以在原有的设备及元件设计下，提升制作出的元件合格率。

主权项

1.一种制作半导体元件的方法，其特征在于，包含：提供光罩，所述光罩具有第一图案；通过所述光罩在基板上形成图案化材料层，其中所述图案化材料层包含第一突出缺陷以及对应所述第一图案的正常图案层；通过所述光罩形成第一图案化光阻层覆盖所述正常图案层，所述第一突出缺陷暴露于所述第一图案化光阻层之外；以及使用所述第一图案化光阻层为遮罩蚀刻所述图案化材料层的所述第一突出缺陷。