[发明专利]半导体结构有效

专利信息
申请号: 201810223603.6 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN110289258B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 张家隆;刘玮鑫;陈柏均;陈意维;蔡函原;吴姿锦;邹世芳 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种半导体结构,其包含一基底,一元件区定义于该基底上,多个下电极结构,位于该元件区内,一上支撑结构,接触该下电极结构的一顶部区域,以及至少一中支撑结构,位于该基底与该上支撑结构之间,接触该下电极结构的一中部区域,其中从上视图来看,该上支撑结构与该中支撑结构不完全重叠。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
1.一种半导体结构,其特征在于,包含:基底,一元件区定义于该基底上;多个下电极结构,位于该元件区内;上支撑结构,接触该下电极结构的一顶部区域;以及至少一中支撑结构,位于该基底与该上支撑结构之间,接触该下电极结构的一中部区域,其中从上视图来看,该上支撑结构与该中支撑结构不完全重叠。
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