[发明专利]一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物及其制备方法在审
申请号: | 201810233572.2 | 申请日: | 2018-03-21 |
公开(公告)号: | CN108409585A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 傅志伟;贺宝元;潘新刚;余文卿;郭有壹;陆伟;庄福君;吴青 | 申请(专利权)人: | 上海博栋化学科技有限公司 |
主分类号: | C07C213/00 | 分类号: | C07C213/00;C07C215/68;C07D309/10;C07C29/147;C07C33/46;C07C67/08;C07C69/65 |
代理公司: | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 林高锋;张东梅 |
地址: | 201614 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本申请涉及一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物的制备方法,该方法包括酯化反应、还原反应、羟基保护、卤素氨基偶联反应、羟基脱保护步骤获得。本申请的制备方法通过使用相对容易得到的原料作为反应物,使用相对温和的反应条件,并且反应路线简单。 | ||
搜索关键词: | 制备 活性位点 三芳胺类 二羟基 氨基 反应路线 反应条件 还原反应 偶联反应 羟基保护 酯化反应 反应物 脱保护 羟基 申请 | ||
【主权项】:
1.一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物的制备方法,其特征在于,通过下述方法来制备:S1:在第一催化剂存在的情况下,对式1表示的化合物的羧基进行酯化反应获得式2表示的化合物;S2:对式2表示的化合物的酯基进行还原反应获得式3表示的化合物;S3:对式3表示的化合物的羟基进行羟基保护获得式4表示的化合物;S4:对式4表示的化合物进行卤素氨基偶联反应获得式5表示的化合物;S5:在第二催化剂存在的情况下,对式5表示的化合物进行羟基脱保护获得式6表示的化合物;X‑Ar‑ROOH 式1X‑Ar‑ROH‑ 式2X‑Ar‑ROH 式3
式中,X为卤素原子,R为C1~10的亚烷基,Ar为芳基,所述X和R是邻位、对位或间位。
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