[发明专利]一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810233572.2 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN108409585A 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 傅志伟;贺宝元;潘新刚;余文卿;郭有壹;陆伟;庄福君;吴青 申请(专利权)人: 上海博栋化学科技有限公司
主分类号: C07C213/00 分类号: C07C213/00;C07C215/68;C07D309/10;C07C29/147;C07C33/46;C07C67/08;C07C69/65
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 林高锋;张东梅
地址: 201614 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请涉及一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物的制备方法,该方法包括酯化反应、还原反应、羟基保护、卤素氨基偶联反应、羟基脱保护步骤获得。本申请的制备方法通过使用相对容易得到的原料作为反应物,使用相对温和的反应条件,并且反应路线简单。
搜索关键词: 制备 活性位点 三芳胺类 二羟基 氨基 反应路线 反应条件 还原反应 偶联反应 羟基保护 酯化反应 反应物 脱保护 羟基 申请
【主权项】:
1.一种具有二羟基活性位点的三芳胺类化合物的制备方法,其特征在于,通过下述方法来制备:S1:在第一催化剂存在的情况下,对式1表示的化合物的羧基进行酯化反应获得式2表示的化合物;S2:对式2表示的化合物的酯基进行还原反应获得式3表示的化合物;S3:对式3表示的化合物的羟基进行羟基保护获得式4表示的化合物;S4:对式4表示的化合物进行卤素氨基偶联反应获得式5表示的化合物;S5:在第二催化剂存在的情况下,对式5表示的化合物进行羟基脱保护获得式6表示的化合物;X‑Ar‑ROOH     式1X‑Ar‑ROH‑     式2X‑Ar‑ROH      式3式中,X为卤素原子,R为C1~10的亚烷基,Ar为芳基,所述X和R是邻位、对位或间位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海博栋化学科技有限公司,未经上海博栋化学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810233572.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top