[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201810240731.1 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN108630514B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 高桥秀一;宫馆孝明;伴瀬贵德;高良穣二;守屋瑠美子 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/21 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理装置，其具有聚焦环，该聚焦环包括：设置在处理室内的载置台所载置的基板的附近的内侧聚焦环；设置在上述内侧聚焦环的外侧，通过移动机构而能够上下移动的中央聚焦环；和设置在上述中央聚焦环的外侧的外侧聚焦环。由此，能够维持对基板的面内整体进行的处理的特性，并控制基板的边缘部的处理特性。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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